Granuli di boro cristallino al 99,999% per droganti di wafer di silice
Granuli di boro cristallino al 99,999% per il drogaggio di wafer di silice: questo materiale è ampiamente utilizzato nell’industria dei semiconduttori. La sua densa struttura cristallina garantisce prestazioni di drogaggio stabili con una minima presenza di contaminanti volatili durante i processi ad alta temperatura. Essendo un materiale drogante di tipo p fondamentale, trova applicazione specifica nella produzione di wafer di silicio monocristallino per le industrie dei semiconduttori e del fotovoltaico. La dimensione uniforme delle particelle assicura una diffusione omogenea all’interno dei substrati di silicio, contribuendo a ottenere una conduttività elettrica stabile nei wafer.
Rigorosi controlli di purificazione riducono le impurità metalliche e gassose a livelli estremamente bassi, soddisfacendo pienamente gli elevati standard richiesti per la produzione di chip e celle solari di ultima generazione. La forma granulare a scorrimento libero facilita l’alimentazione e la manipolazione sicura nei forni di drogaggio industriali.
Indice dei prodotti:
| Formula molecolare: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Densità | 2,3 g/cm³ |
| Fase | fase β-B |
| Punto di fusione | 2300 °C |
| Punto di ebollizione | 2550 °C |
| Durezza Mohs | >9 |
| massa atomica relativa | 10.81 |
| Isotopi stabili | 10B、11B |
| Colore | Grigio scuro, nero |
Composizione chimica:
| Chimica | 2N BORO CRISTALLINO | 3N BORO CRISTALLINO | 4N BORO CRISTALLINO | 5N BORO CRISTALLINO | 6N BORO CRISTALLINO |
| B | ≥99% | ≥99,9% | ≥99,99% | ≥99,999% | ≥99,9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| A | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| A | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Con | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Pb | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Quello | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| COME | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| IN | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Dimensioni e confezione tipiche:
| CONTENUTO DI BORO | DIMENSIONI TIPICHE | Pacchetto |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | 1 kg/5 kg Confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto (la nanopolvere è sigillata, non sottovuoto). |
| 99,9 | -200Mesh, 0-10μm, 1-10mm | tipo in polvere: 1 kg/5 kg/ confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto,
Tipo granulare: 50 g/500 g/1000 g confezionati in flacone di PP, con protezione di gas inerte. |
| 99,99 | -200 mesh, 1-10 mm | 50 g/100 g Confezionato in flacone di PP, riempito con gas inerte sigillato. |
| 99.999 | ||
| 99,9999 |
Applicazione:
1. Applicazioni del boro cristallino nell’industria nucleare:
Il boro cristallino svolge un ruolo cruciale nel campo dell’energia nucleare. Può essere utilizzato come materiale di controllo della neutralizzazione nei reattori nucleari. Il boro è in grado di compensare e regolare la reattività di neutralizzazione e di facilitare gli arresti di emergenza, mantenendo così la stabilità operativa del reattore. Il boro cristallino non solo presenta un elevato limite di assorbimento di neutralizzazione, ma anche un ampio intervallo di assorbimento di energia di neutralizzazione, riducendo o regolando efficacemente il flusso di neutralizzazione generato dall’energia nucleare. In tal modo, garantisce la sicurezza del sistema energetico nucleare.
2. Applicazioni del boro cristallino nella produzione di semiconduttori:
Il boro cristallino è ampiamente utilizzato anche nell’industria dei semiconduttori. Come drogante di tipo p, il boro cristallino può essere impiegato per modificare la conduttività dei materiali semiconduttori. Aggiungendo boro cristallino ai lingotti di silicio, è possibile alterarne le proprietà di conduttività. In questo modo si possono realizzare dispositivi semiconduttori con diverse caratteristiche di conduttività, come diodi e transistor a effetto di campo. Inoltre, il boro cristallino può essere utilizzato come materia prima per la crescita di materiali semiconduttori monocristallini di lunga durata. I monocristalli di silicio drogati con boro possono essere cresciuti mediante il metodo melt-blown per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni.
La polvere di boro cristallino con purezza del 99,9% viene utilizzata nella produzione di wafer di silicio per celle solari come drogante del substrato per wafer di silicio di tipo P e come diffusore dell’emettitore di boro per wafer di silicio di tipo N. Polveri di boro ad alta purezza di 5N e 6N possono essere utilizzate come droganti per semiconduttori di tipo P per modificarne la conduttività e sono impiegate nella produzione di wafer di silicio ad alta purezza.
3. Applicazione del boro cristallino nei target di sputtering per semiconduttori:
Le particelle di boro cristallino 3N e 4N possono essere aggiunte a prodotti in lega funzionale per formare target per il rivestimento mediante sputtering di semiconduttori.
4. Applicazioni del boro cristallino in ottica:
Il boro cristallino trova inoltre ampie applicazioni in ottica. Grazie alle sue eccellenti proprietà ottiche non lineari, il boro cristallino può svolgere funzioni quali la modulazione della luce, la scansione di frequenza e la duplicazione di frequenza. Pertanto, il boro cristallino è ampiamente utilizzato in dispositivi ottici, tra cui modulatori ottici, pettini di frequenza ottica e laser. Inoltre, il boro cristallino può essere impiegato anche come mezzo di guadagno nei laser a infrarossi, esibendo un’elevata soglia di emissione e un ampio intervallo spettrale di eccitazione.
5. Boro cristallino in materiali ceramici ad alta durezza:
Il boro cristallino può essere utilizzato anche per preparare materiali ad alta durezza, come il carburo di boro (B4C) e i composti di boro grafitico (Bg). Il carburo di boro è un materiale ceramico estremamente duro con eccellente resistenza all’usura e alle alte temperature, ed è quindi ampiamente utilizzato nella produzione di giubbotti antiproiettile, utensili resistenti, abrasivi e ceramiche resistenti all’usura. I composti di boro grafitico sono materiali con una struttura simile alla grafite, che presentano un’elevata conduttività elettrica e stabilità termica, e possono essere utilizzati per preparare leganti conduttivi ad alte prestazioni, materiali termicamente conduttivi e materiali d’attrito.
6. Applicazioni del boro cristallino nelle batterie termiche:
Le batterie termiche sono batterie di accumulo monofase ad attivazione termica che utilizzano sali fusi come elettrolita. Presentano vantaggi quali dimensioni ridotte, peso contenuto, lunga durata di conservazione, funzionamento senza manutenzione, attivazione rapida e affidabile e un ampio intervallo di temperature operative, e sono ampiamente utilizzate nei dispositivi di accensione di alcune armi strategiche e convenzionali. Il materiale dell’anodo di una batteria termica gioca un ruolo decisivo nella sua capacità, volume e potenza erogata. I materiali anodici delle batterie termiche si sono evoluti dai materiali iniziali a base di magnesio e calcio agli attuali materiali a base di litio. Ad esempio, i compositi Li-B possiedono vantaggi eccezionali come elevata densità di energia, elevata potenza erogata, bassa polarizzazione, potenziale elettrochimico vicino a quello del litio puro e rimangono solidi a temperature superiori a 600 °C. È il materiale anodico per batterie termiche più promettente e viene gradualmente applicato nelle batterie termiche di fascia alta.
7. Applicazioni del boro cristallino nell’industria militare:
Il boro cristallino può essere utilizzato per produrre materiali balistici ceramici al boro ad elevata purezza, agenti ritardanti al boro ad elevata purezza, flussi di saldatura al boro ad elevata purezza, esplosivi al boro ad elevata purezza e propellenti per razzi ad elevata purezza, ricchi di combustibile e impoveriti di ossigeno.
8. Boro cristallino nella produzione di leghe:
Lega di rame e boro ad alta purezza, lega di titanio e boro ad alta purezza, acciaio policristallino al boro ad alta purezza, utensili superduri resistenti all’usura al boro ad alta purezza, lamiere di acciaio anticorrosivo al boro ad alta purezza, lega di nichel e boro ad alta purezza, lega di cromo e boro ad alta purezza, lega di litio-boro (un nuovo materiale per batterie), lega superconduttrice boro-magnesio.
9. Applicazioni del boro cristallino nel settore aerospaziale:
La polvere di boro cristallino ad elevata purezza può essere utilizzata come materiale di rivestimento nanotecnologico. Attraverso la tecnologia di sputtering, il materiale in polvere viene depositato sulla superficie di un substrato, rendendo i componenti resistenti all’usura, alla corrosione, alle alte temperature, all’ossidazione e agli agenti atmosferici. Ciò soddisfa i requisiti dei motori in condizioni di esercizio estremamente gravose nei settori aerospaziale e aeronautico, e può anche soddisfare requisiti specifici in optoelettronica e altri campi.
