Boro cristallino granulare 3N 4N 5N 6N
Il boro cristallino granulare (3N, 4N, 5N, 6N) è un importante additivo funzionale inorganico in ambito industriale. Il boro cristallino è un boro elementare in fase β con una struttura cristallina icosaedrica rombica. Possiede una forte inerzia chimica, un’elevata durezza meccanica e un alto punto di fusione. Il boro cristallino si presenta sia in forma granulare che in polvere, di colore grigio-nero. Trova ampio impiego in settori quali i semiconduttori, l’ottica, le batterie termiche e i materiali ceramici in polvere.
La granulometria standard della polvere di boro cristallino da noi fornita è di 15-60 μm. La dimensione dei grani convenzionale delle particelle di boro cristallino è di 1-10 mm (dimensioni dei grani speciali possono essere personalizzate in base alle esigenze del cliente), generalmente suddivisa in cinque specifiche 2N, 3N, 4N, 5N, 6N a seconda della purezza.
Indice dei prodotti:
| Formula molecolare: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Densità | 2,3 g/cm³ |
| Fase | fase β-B |
| Punto di fusione | 2300 °C |
| Punto di ebollizione | 2550 °C |
| Durezza Mohs | >9 |
| massa atomica relativa | 10.81 |
| Isotopi stabili | 10B、11B |
| Colore | Grigio scuro, nero |
Composizione chimica:
| Chimica | 2N BORO CRISTALLINO | 3N BORO CRISTALLINO | 4N BORO CRISTALLINO | 5N BORO CRISTALLINO | 6N BORO CRISTALLINO |
| B | ≥99% | ≥99,9% | ≥99,99% | ≥99,999% | ≥99,9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| A | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| A | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Con | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Pb | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Quello | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| COME | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| IN | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Dimensioni e confezione tipiche:
| CONTENUTO DI BORO | DIMENSIONI TIPICHE | Pacchetto |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | 1 kg/5 kg Confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto (la nanopolvere è sigillata, non sottovuoto). |
| 99,9 | -200Mesh, 0-10μm, 1-10mm | tipo in polvere: 1 kg/5 kg/ confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto,
Tipo granulare: 50 g/500 g/1000 g confezionati in flacone di PP, con protezione di gas inerte. |
| 99,99 | -200 mesh, 1-10 mm | 50 g/100 g Confezionato in flacone di PP, riempito con gas inerte sigillato. |
| 99.999 | ||
| 99,9999 |
Applicazione:
1. Applicazioni del boro cristallino nell’industria nucleare:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
Il boro cristallino può essere utilizzato anche per preparare materiali ad alta durezza, come il carburo di boro (B4C) e i composti di boro grafitico (Bg). Il carburo di boro è un materiale ceramico estremamente duro con eccellente resistenza all’usura e alle alte temperature, ed è quindi ampiamente utilizzato nella produzione di giubbotti antiproiettile, utensili resistenti, abrasivi e ceramiche resistenti all’usura. I composti di boro grafitico sono materiali con una struttura simile alla grafite, che presentano un’elevata conduttività elettrica e stabilità termica, e possono essere utilizzati per preparare leganti conduttivi ad alte prestazioni, materiali termicamente conduttivi e materiali d’attrito.
6. Applicazioni del boro cristallino nelle batterie termiche:
Le batterie termiche sono batterie di accumulo monofase ad attivazione termica che utilizzano sali fusi come elettrolita. Presentano vantaggi quali dimensioni ridotte, peso contenuto, lunga durata di conservazione, funzionamento senza manutenzione, attivazione rapida e affidabile e un ampio intervallo di temperature operative, e sono ampiamente utilizzate nei dispositivi di accensione di alcune armi strategiche e convenzionali. Il materiale dell’anodo di una batteria termica gioca un ruolo decisivo nella sua capacità, volume e potenza erogata. I materiali anodici delle batterie termiche si sono evoluti dai materiali iniziali a base di magnesio e calcio agli attuali materiali a base di litio. Ad esempio, i compositi Li-B possiedono vantaggi eccezionali come elevata densità di energia, elevata potenza erogata, bassa polarizzazione, potenziale elettrochimico vicino a quello del litio puro e rimangono solidi a temperature superiori a 600 °C. È il materiale anodico per batterie termiche più promettente e viene gradualmente applicato nelle batterie termiche di fascia alta.
7. Applicazioni del boro cristallino nell’industria militare:
Il boro cristallino può essere utilizzato per produrre materiali balistici ceramici al boro ad elevata purezza, agenti ritardanti al boro ad elevata purezza, flussi di saldatura al boro ad elevata purezza, esplosivi al boro ad elevata purezza e propellenti per razzi ad elevata purezza, ricchi di combustibile e impoveriti di ossigeno.
8. Boro cristallino nella produzione di leghe:
Lega di rame e boro ad alta purezza, lega di titanio e boro ad alta purezza, acciaio policristallino al boro ad alta purezza, utensili superduri resistenti all’usura al boro ad alta purezza, lamiere di acciaio anticorrosivo al boro ad alta purezza, lega di nichel e boro ad alta purezza, lega di cromo e boro ad alta purezza, lega di litio-boro (un nuovo materiale per batterie), lega superconduttrice boro-magnesio.
9. Applicazioni del boro cristallino nel settore aerospaziale:
La polvere di boro cristallino ad elevata purezza può essere utilizzata come materiale di rivestimento nanotecnologico. Attraverso la tecnologia di sputtering, il materiale in polvere viene depositato sulla superficie di un substrato, rendendo i componenti resistenti all’usura, alla corrosione, alle alte temperature, all’ossidazione e agli agenti atmosferici. Ciò soddisfa i requisiti dei motori in condizioni di esercizio estremamente gravose nei settori aerospaziale e aeronautico, e può anche soddisfare requisiti specifici in optoelettronica e altri campi.
